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猎户座3100S
AMC空气分子污染物监测系统
一、AMC空气分子污染物监测系统3100S产品介绍：
1、实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响，对很多微量污染物极为敏感，比如或者酸性气体都会给半导体生产带来较大的危害，尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展，已经减少了长时间持续实时监测，而实际上空气分子污染（AMC）的实时测量对产品质量的好坏至关重要。
2、猎户座3100S系列空气分子污染物监测系统基于CEAS（腔增强吸收光谱）技术连续分析仪器，将增加半导体器件阻抗一致性、保证更长的过滤器寿命、减少生产过程的停工时间。
3、ETGHMI（人机交互界面）软件可以实时观察、实时测量、实时操作对不同空间不同位置的NH3、HCL、HF进行分析，软件专门针对半导体行业开发，对于深紫外光刻工艺过程中监测与控制空气分子污染（AMC）提供有力的支持，软件集成了多点采样（MS）控制功能，具有实时显示数据曲线、报警、存储、趋势、历史曲线、分析等功能。
AMC空气分子污染物监测系统
一、AMC空气分子污染物监测系统3100S产品介绍：
1、实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响，对很多微量污染物极为敏感，比如或者酸性气体都会给半导体生产带来较大的危害，尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展，已经减少了长时间持续实时监测，而实际上空气分子污染（AMC）的实时测量对产品质量的好坏至关重要。
2、猎户座3100S系列空气分子污染物监测系统基于CEAS（腔增强吸收光谱）技术连续分析仪器，将增加半导体器件阻抗一致性、保证更长的过滤器寿命、减少生产过程的停工时间。
3、ETGHMI（人机交互界面）软件可以实时观察、实时测量、实时操作对不同空间不同位置的NH3、HCL、HF进行分析，软件专门针对半导体行业开发，对于深紫外光刻工艺过程中监测与控制空气分子污染（AMC）提供有力的支持，软件集成了多点采样（MS）控制功能，具有实时显示数据曲线、报警、存储、趋势、历史曲线、分析等功能。
本产品信息由北京杜克泰克科技有限公司整理发布，更多关于AMC在线监测的信息请关注：
https://www.chem17.com/st307321/erlist_2101588.html
https://www.chem17.com/st307321/erlist_2204526.html
AMC在线监测